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做氧化硅抛光液需要的分散剂

氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。那么制作氧化硅抛光液中需要用到怎么样的分散剂来做水基下达到100纳米做悬浮液。

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。氧化硅抛光液产品去除率高，表面质量好，没有橘皮、划伤、塌边、凹坑、麻点、发蒙等不良现象。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。

氧化硅抛光液需要用到的分散剂厂家建议用HH2054分散剂，用在水基100纳米中，做成悬浮液。然后制备氧化硅抛光液。有效解决问题，详情资料请找我们为您详细讲解，同时支持同步测试实验环节。

红黄黑有机颜料的分散剂

有机颜料广泛地用于油墨、油漆、涂料、合成纤维的原浆着色，以及织物的涂料印花、塑料及橡胶、皮革的着色等，其中油墨的颜料使用量大。有机颜料的产量占染料总产量的四分之一左右。红黄黑有机颜料的分散剂哪里找得到，并且有机颜料的性质是什么？

有机颜料是不溶性有机物,通常以高度分散状态加入底物而使底物着色。它与染料的根本区别在于,染料能够溶解在所用的染色介质中,而颜料则既不溶于使用它们的介质，也不溶于被着色的底物。不少颜料和染料在化学结构上是一致的,采用不同的使用方法,可以使它们之间相互转化,比如某些还原染料和硫化还原染料，若其还原成隐色体,则可以作为纤维染料;若不经还原,可以作为颜料用于油墨。

碳酸钙研磨分散剂的种类 常用的碳酸钙研磨分散剂有三大类。无机类（如六偏磷酸钠、二硅酸钠等）、有机类(如苯磺酸盐等)、高分子类(聚羧酸盐、聚酸衍生物)。目前在碳酸钙的超细研磨中普遍采用的是高分子类分散剂。 无机类分散剂。无机类分散剂的作用机理是通过增加碳酸钙颗粒表面的电荷，增强表面的静电斥力，使粒子在热运动、布朗运动过程中难以进一步靠拢而絮聚。部分无机类分散剂还能够增强颗粒表面的润湿程度。主要有聚磷酸盐（如六偏磷酸钠）、硅酸盐、碳酸盐等，其中以六偏***钠为常用。但需要注意的是无机分散剂会对导电率、介电常数带来不良影响，也因此使得无机类分散剂的应用尤其是在超细研磨中受到极大的限制。 有机类小分子分散剂。有机类小分子分散剂主要为各种表面活性剂，可分为3类：阴离子型、非离子型和阳离子型。离子型的分散剂主要通过表面电荷的静电斥力作用，非离子型分散剂主要通过空间位阻作用来改善悬浮液的稳定性能，另外此类分散剂在改善碳酸钙颗粒表面润湿性能方面也有很大的作用。常用的有机小分子分散剂主要有聚醚或烷芳基的***盐、氯化物、酚聚乙烯醚等。 高分子类分散剂。高分子类分散剂的相对分子质量一般在1000-100000，其功能基团一般包含2个部分：一部分为锚固基团，主要通过离子键、共价键、氢键和范德华力等作用以单点或多点锚固的形式紧密地吸附或结合在颗粒表面，常见的锚固基团有—NR3+、—R2、—COOH、—COO-、—SO3H、—SO3-、—PO42-、多元胺、多元醇及聚醚等；另一部分为可被分散介质溶剂化的聚合物链，用于构建空间位阻基团，产生空间位阻，防止碳酸钙颗粒絮聚，常见的空间位阻基团构建聚合物链有聚酯、聚醚、聚烯烃以及聚酸酯等。